Với sự phát triển liên tục của công nghệ, công nghệ sưởi ấm hồng ngoại đã dần dần trở thành trọng tâm của sự chú ý của mọi người.và các lĩnh vực khác do lợi thế của nó hiệu quả cao, bảo vệ môi trường và an toàn.
Nguyên tắc và đặc điểm của sưởi ấm hồng ngoại:
Công nghệ sưởi ấm hồng ngoại sử dụng đặc điểm của vật liệu bán dẫn hấp thụ ánh sáng hồng ngoại và chuyển đổi nó thành nhiệt để đạt được sự sưởi ấm của các vật thể mục tiêu.Nguyên tắc cốt lõi là khi các vật liệu bán dẫn hấp thụ ánh sáng hồng ngoại, các electron chuyển từ dải valence sang dải dẫn, tạo thành dòng điện và tạo ra nhiệt.do đó đạt được hiệu ứng sưởi ấm.
Công nghệ sưởi ấm hồng ngoại có các đặc điểm sau:
● Hiệu quả: Do năng lượng cao của ánh sáng hồng ngoại, các vật liệu bán dẫn có thể hiệu quả chuyển đổi nó thành nhiệt, do đó đạt được nhiệt nhanh chóng.
● Không gây ô nhiễm môi trường: Công nghệ sưởi ấm hồng ngoại không tạo ra các chất độc hại khi sử dụng và không gây ô nhiễm tiếng ồn, làm cho nó trở thành một phương pháp sưởi ấm thân thiện với môi trường.
● An toàn: Do nhiệt hồng ngoại chỉ là nhiệt kháng cự, nên không có dòng điện đi qua chính vật liệu bán dẫn, do đó nó có độ an toàn cao.
● Có thể áp dụng rộng rãi: Thiết bị sưởi ấm hồng ngoại có khối lượng nhỏ, dễ cài đặt và phù hợp với các vật thể có hình dạng và kích thước khác nhau.
Ứng dụng công nghệ sưởi ấm hồng ngoại
1Thiết bị sưởi ấm wafer
Silicon wafer là một vật liệu bán dẫn quan trọng được sử dụng rộng rãi trong các lĩnh vực như sản xuất mạch và tấm pin mặt trời.có thể loại bỏ chất hữu cơ và bong bóng, kích hoạt vật liệu, điều chỉnh hình dạng, tăng cường cấu trúc vật liệu, vv, đảm bảo độ tinh khiết bề mặt và chất lượng của miếng wafer silicon,và cho phép họ đóng một vai trò tốt hơn trong các lĩnh vực ứng dụng khác nhauBằng cách sử dụng bức xạ hồng ngoại (IR) để tạo ra nhiệt dày đặc, nhiệt độ của wafer có thể được đo chính xác bằng máy đo nhiệt hồng ngoại.
Hình dưới đây là một loại hệ thống RTP. Trong hệ thống RTP, đèn ở phía trên và phía dưới được đặt theo chiều dọc để làm nóng đồng đều wafer bằng bức xạ hồng ngoại.Nhiệt độ wafer được theo dõi bởi một máy đo nhiệt và sau đó được kiểm soát thông qua phản hồi năng lượng từ đèn tungsten halogenBề mặt sưởi ấm nhận được năng lượng bức xạ đường đỏ trung bình, làm giảm hiệu quả các vấn đề chất lượng quá trình bất lợi do nhiệt độ không đồng đều.
2. lò hàn tái dòng chân không
Một lò phản phồng chân không là một quá trình hàn chất lượng cao của các sản phẩm trong môi trường chân không, được sử dụng để bảo vệ các sản phẩm và hàn khỏi oxy hóa trong điều kiện chân không.Đồng thời, nó phản ứng với oxit trên bề mặt của sản phẩm và hàn để cải thiện chất lượng bề mặt hàn và giảm độ xốp của hàn.Thông thường được sử dụng trong các sản phẩm chính xác cao như hàng không vũ trụPhòng chân không được trang bị một hệ thống sưởi ấm tích hợp, áp dụng nguyên tắc sưởi ấm bức xạ hồng ngoại.hàn an toàn ở nhiệt độ cực thấp, không có sự khác biệt nhiệt độ, không quá nóng, các thông số quy trình đáng tin cậy và ổn định, không cần các thử nghiệm quy trình phức tạp và chi phí hoạt động môi trường thấp. Nó đáp ứng nhu cầu của nhiều giống,lô nhỏ, và hàn độ tin cậy cao của các sản phẩm quân sự.
3. lò điện áp chân không
Một lò điện áp chân không là một thiết bị được sử dụng để điện áp bề mặt của kim loại hoặc các vật liệu khác. Nó có thể điện áp trong môi trường chân không,do đó cải thiện chất lượng và độ bền của lớp điện áp. Kiểm soát nhiệt độ là một bước quan trọng trong hoạt động của lò điện áp chân không. Nhìn chung, kiểm soát nhiệt độ của lò điện áp chân không rất quan trọng.Bằng cách sử dụng các đặc điểm của nhiệt hồng ngoại, kiểm soát nhiệt độ chính xác và đảm bảo sự đồng nhất nhiệt độ có thể cải thiện hiệu quả chất lượng và độ bền của lớp điện áp,đáp ứng các yêu cầu của các quy trình điện áp khác nhauĐồng thời, nó cũng có thể đảm bảo sự an toàn và ổn định của quá trình điện đúc.
